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研磨抛光液
产品型号
S-M802
S-M802使用球形纳米颗粒,可加速切除和优化抛光质量 可实现超精密无损伤表面加工,满足集成电路特征尺寸在0.35μm以下的全局平坦化要求。
适用制程
晶片形成的一道工序是化学机械抛光 ,S-M802作用:是为了后面的光刻工艺,为其提供具有高度平坦化、高度洁净表面的晶片。
应用说明
本抛光液既适用于震动(研磨)光饰机、滚动(研磨)光饰机和涡流式(研磨)光饰机,同时也可在离心(研磨)光饰机等其它(研磨)光饰机中使用。
包装规格
20kg/桶
关键词
抛光粉
产品型号
BYM501
了解更多产品更多详细信息请发送邮件获取 >
适用制程
玻璃盖板研磨/减薄/扫光
应用说明
适用于精密光学玻璃的抛光;单面双面抛光平板玻璃的抛光
包装规格
25KG/袋
关键词
蚀刻液
产品型号
IC313
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适用制程
蚀刻
应用说明
用于玻璃蚀刻,常温浸泡20min以上,视蚀刻要求决定时间。
包装规格
25KG/桶
关键词
抛光液
产品型号
BYM311
适用制程
玻璃盖板研磨/减薄/扫光
应用说明
用于精密光学玻璃的抛光;单面双面抛光平板玻璃的抛光
包装规格
25KG/桶
关键词